基本信息

  • 生产厂商 北京创世威纳科技有限公司
  • 资产编号 S2010382
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  • 购置日期2020-09-24
  • 仪器价格43.80 万元
  • 仪器产地中国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人
  • 主要配件
  • 主要参数1.极限真空：≤6.7×10-5Pa（环境湿度≤55%）。系统漏率：≤1.0×10-7Pa•L/s。 2.溅射靶：可调角度Φ4英寸标准磁场磁控溅射靶3只，下置安装。 3.溅射不均匀性：≤±5%（Φ6英寸范围内）。≤±6%（Φ8英寸范围内）。 3.工件台旋转：可自转，转速0～30rpm范围内可调。 4.样品加热：红外加热器，加热温度600℃，控温精度±1%。 5.工位数与样品数量：最大Φ8英寸1片或小样片数片。

仪器介绍

该设备通过直流溅射及射频溅射方式进行镀膜，可以实现各种金属、合金薄膜、非金属薄膜以及化合物薄膜的制备。