基本信息

  • 生产厂商 SENTECH
  • 资产编号 1612961G 
  • 资产负责人 张春权
  • 购置日期2016-12-22
  • 仪器价格0.00 万元
  • 仪器产地德国
  • 仪器供应商
  • 购买经办人张春权
  • 主要配件
  • 主要参数1. 本底真空：< 1 x 10-6 mbar (7.6 x 10-4 mTorr) 2. 7路气体：六氟化硫、三氟甲烷、四氟化碳、氩气、氧气、氮气（吹扫用）、氦气（背冷却用） 3. 样品通过预真空室装载，碎片需使用载片器（托盘）。取-放系统保证了衬底操作的洁净与安全。预真空室有可编程的吹扫循环工艺、确保操作者安全和腔室洁净。 4. 一个射频发生器（13.56 MHz, 600 W）用于下电极偏置，另一个用于驱动ICP源（13.56 MHz, 1200 W） 5. 样品尺寸：≤8英寸

仪器介绍

感应耦合等离子刻蚀机SI 500可广泛应用于从普通反应离子刻蚀RIE到高密度等离子ICP刻蚀工艺，特别适合于刻蚀氧化硅、氮化硅、硅等。SI 500的硬件、软件满足了最前沿的研发需要，同时也满足生产线的高稳定性和可重复性要求。